电子与封装2008，Vol.8Issue(10)：31-36,45,7.
影响PSM工艺产品良率因素的研究
The Relationship Between Resist and Pre-layer Pattern Research for the Effect of Yield in PSM Process
赵伟 1程秀兰2
作者信息
- 1. 上海交通大学微电子学院,上海,200030
- 2. 中芯国际集成电路制造有限公司,上海,201200
- 折叠
摘要
关键词
良率/相位移掩膜/光阻/显影/扫描式曝光/光学邻近效应分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
赵伟,程秀兰..影响PSM工艺产品良率因素的研究[J].电子与封装,2008,8(10):31-36,45,7.
