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应用于MEMS的多孔硅的制备方法研究

韩建忠 倪国强 崔梦 胡明 田斌

电子元件与材料2004，Vol.23Issue(6)：32-34,3.
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电子元件与材料2004，Vol.23Issue(6)：32-34,3.

应用于MEMS的多孔硅的制备方法研究

The Study on Preparing Methods of Porous Silicon Used in MEMS

韩建忠 1倪国强 1崔梦 2胡明 2田斌2

作者信息

  • 1. 北京理工大学光电工程系,北京,100081
  • 2. 天津大学电子信息工程学院,天津,300072
  • 折叠

摘要

关键词

多孔硅/MEMS/制备方法/双槽电化学腐蚀法

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

韩建忠,倪国强,崔梦,胡明,田斌..应用于MEMS的多孔硅的制备方法研究[J].电子元件与材料,2004,23(6):32-34,3.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(60071027,60371030) （60071027,60371030）

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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