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多弧离子镀制备高比电容铝箔的研究

周青春 潘应君

电子元件与材料2008,Vol.27Issue(3):32-34,3.
电子元件与材料2008,Vol.27Issue(3):32-34,3.

多弧离子镀制备高比电容铝箔的研究

Study on high specific capacitance of aluminum foil by multi-arc ion plating system

周青春 1潘应君1

作者信息

  • 1. 武汉科技大学,材料与冶金学院,湖北,武汉,430081
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摘要

关键词

电子技术/PVD/铝箔/比电容/TiCN涂层

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

周青春,潘应君..多弧离子镀制备高比电容铝箔的研究[J].电子元件与材料,2008,27(3):32-34,3.

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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