| 注册
首页|期刊导航|电子与封装|干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响

干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响

董家伟 黄其煜

电子与封装2009,Vol.9Issue(3):32-35,4.
电子与封装2009,Vol.9Issue(3):32-35,4.

干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响

ESC's Influence to Production in Poly Etch and Methods to Improve ESC's Lifetime

董家伟 1黄其煜2

作者信息

  • 1. 上海交通大学微电子学院,上海,200240
  • 2. 中芯国际(上海)集成电路制造有限公司,上海,201203
  • 折叠

摘要

关键词

静电吸盘/双极性/夹持电压/偏压补偿/冷却气体

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

董家伟,黄其煜..干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响[J].电子与封装,2009,9(3):32-35,4.

电子与封装

1681-1070

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文