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c轴择优取向AlN薄膜的制备研究

宁金叶 刘兴钊 邓新武

电子元件与材料2009,Vol.28Issue(5):36-38,3.
电子元件与材料2009,Vol.28Issue(5):36-38,3.DOI:10.3969/j.issn.1001-2028.2009.05.012

c轴择优取向AlN薄膜的制备研究

Research on preparation of AlN thin films preferentially orientated to c-axis

宁金叶 1刘兴钊 1邓新武1

作者信息

  • 1. 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
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摘要

关键词

AlN/MOCVD/压电薄膜

分类

数理科学

引用本文复制引用

宁金叶,刘兴钊,邓新武..c轴择优取向AlN薄膜的制备研究[J].电子元件与材料,2009,28(5):36-38,3.

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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