电子元件与材料2004，Vol.23Issue(3)：37-38,42,3.
氧退火对钛酸锶钡薄膜介电常数的影响
Effect of Oxygen Annealing on Dielectric Constant of Ba1-xSrxTiO3 Thin Film
摘要
关键词
MIOS结构/C-V特性/介电常数/退火分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
陈平,黄美浅,李斌,李观启..氧退火对钛酸锶钡薄膜介电常数的影响[J].电子元件与材料,2004,23(3):37-38,42,3.基金项目
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