电子与封装2006，Vol.6Issue(12)：37-41,48,6.
无中间层双大马士革中FSG刻蚀技术研究
The Study of FSG Etching in Non-Stop Layer Dual Damascene Structure
王怡靖 1刘恩峰 2黄均文1
作者信息
- 1. 上海交通大学微电子学院,上海,200030
- 2. 泛林半导体设备技术(上海)有限公司,上海,201203
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摘要
关键词
双大马士革/无中间层/FSG/刻蚀分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王怡靖,刘恩峰,黄均文..无中间层双大马士革中FSG刻蚀技术研究[J].电子与封装,2006,6(12):37-41,48,6.
