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工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响

辛荣生 林钰 贾晓林

电子元件与材料2009,Vol.28Issue(6):43-45,3.
电子元件与材料2009,Vol.28Issue(6):43-45,3.DOI:10.3969/j.issn.1001-2028.2009.06.013

工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响

Effect of technological conditions on the electrical and optical properties of flexible ITO films

辛荣生 1林钰 2贾晓林1

作者信息

  • 1. 郑州大学,材料科学与工程学院,河南,郑州,450052
  • 2. 河南教育学院,化学系,河南,郑州,450014
  • 折叠

摘要

关键词

DC磁控溅射/柔性衬底/ITO薄膜/电阻率/透光率

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

辛荣生,林钰,贾晓林..工艺条件对柔性衬底ITO薄膜光电性能的影响[J].电子元件与材料,2009,28(6):43-45,3.

基金项目

河南省科技攻关项目(No.0224380029) (No.0224380029)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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