电子元件与材料2005,Vol.24Issue(8):46-48,3.
磁控溅射法制备AZO薄膜的工艺研究
Technology Study of AZO Thin Films Made by Magnetron Sputtering
张丽伟 1卢景霄 2段启亮 1王海燕 1李瑞 1靳锐敏 1王红娟 1张宇翔1
作者信息
- 1. 郑州大学物理工程学院,材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052
- 2. 新乡师范高等专科学校,河南,新乡,453000
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摘要
关键词
无机非金属材料/AZO薄膜/磁控溅射法/制备气氛/退火温度分类
数理科学引用本文复制引用
张丽伟,卢景霄,段启亮,王海燕,李瑞,靳锐敏,王红娟,张宇翔..磁控溅射法制备AZO薄膜的工艺研究[J].电子元件与材料,2005,24(8):46-48,3.