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Ga Al In掺杂ZnO电子结构的第一性原理计算

张富春 邓周虎 阎军锋 允江妮 张志勇

电子元件与材料2005,Vol.24Issue(8):4-7,10,5.
电子元件与材料2005,Vol.24Issue(8):4-7,10,5.

Ga Al In掺杂ZnO电子结构的第一性原理计算

First-principles Calculation of ZnO Electronic Structure by Doping with Ga, Al and In

张富春 1邓周虎 2阎军锋 1允江妮 1张志勇1

作者信息

  • 1. 西北大学电子科学系,陕西,西安,710069
  • 2. 延安大学物理与电子信息学院,陕西,延安,716000
  • 折叠

摘要

关键词

半导体技术/ZnO/第一性原理/电子结构/掺杂/透明导电薄膜

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

张富春,邓周虎,阎军锋,允江妮,张志勇..Ga Al In掺杂ZnO电子结构的第一性原理计算[J].电子元件与材料,2005,24(8):4-7,10,5.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(60472068,10271093) (60472068,10271093)

电子元件与材料

OA北大核心CSCD

1001-2028

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