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同质缓冲层对ZnO薄膜光学性质的影响

朱慧群 丁瑞钦 蔡继业 胡怡

电子元件与材料2006,Vol.25Issue(7):48-51,4.
电子元件与材料2006,Vol.25Issue(7):48-51,4.

同质缓冲层对ZnO薄膜光学性质的影响

Influence of Homo-buffer Layers on Optical Properties of ZnO Thin Films

朱慧群 1丁瑞钦 1蔡继业 2胡怡2

作者信息

  • 1. 五邑大学薄膜与纳米材料研究所,广东,江门,529020
  • 2. 暨南大学化学系,广东,广州,510632
  • 折叠

摘要

关键词

半导体技术/射频磁控溅射/ZnO薄膜/同质缓冲层/PL谱

分类

数理科学

引用本文复制引用

朱慧群,丁瑞钦,蔡继业,胡怡..同质缓冲层对ZnO薄膜光学性质的影响[J].电子元件与材料,2006,25(7):48-51,4.

基金项目

广东省自然科学基金资助项目(04011770) (04011770)

广东省江门市科技计划基金资助项目(江财企2004.59号) (江财企2004.59号)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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