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中频交流磁控溅射制备AZO薄膜及退火工艺

齐玉明 梅冰 杨光

电子元件与材料2007,Vol.26Issue(8):62-64,3.
电子元件与材料2007,Vol.26Issue(8):62-64,3.

中频交流磁控溅射制备AZO薄膜及退火工艺

Anneal technique and the process of AZO thin films prepared by middle-frequency alternative magnetron sputtering

齐玉明 1梅冰 2杨光2

作者信息

  • 1. 吉林化工学院,物理系,吉林,吉林,132022
  • 2. 宏光纳米科技,深圳,有限公司,广东,深圳,518129
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摘要

关键词

无机非金属材料/中频磁控溅射/AZO薄膜/退火

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

齐玉明,梅冰,杨光..中频交流磁控溅射制备AZO薄膜及退火工艺[J].电子元件与材料,2007,26(8):62-64,3.

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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