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正性光敏聚酰亚胺研究与应用进展(二)

刘金刚 袁向文 尹志华 左立辉 杨士勇

电子与封装2009,Vol.9Issue(1):7-11,23,6.
电子与封装2009,Vol.9Issue(1):7-11,23,6.

正性光敏聚酰亚胺研究与应用进展(二)

Research and Development of Positive-working Photosensitive Polyimides (2)

刘金刚 1袁向文 2尹志华 1左立辉 2杨士勇1

作者信息

  • 1. 高技术材料实验室,中国科学院化学研究所,北京,100080
  • 2. 北京波米科技有限公司,北京,100044
  • 折叠

摘要

关键词

正性光敏聚酰亚胺/光刻/微电子封装/光电器件

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘金刚,袁向文,尹志华,左立辉,杨士勇..正性光敏聚酰亚胺研究与应用进展(二)[J].电子与封装,2009,9(1):7-11,23,6.

基金项目

北京市科委资助项目(编号:Z08080302110801) (编号:Z08080302110801)

电子与封装

1681-1070

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