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低温多晶硅薄膜制备技术应用进展

杨定宇 蒋孟衡 涂小强

电子元件与材料2007,Vol.26Issue(8):8-11,4.
电子元件与材料2007,Vol.26Issue(8):8-11,4.

低温多晶硅薄膜制备技术应用进展

Application progress on the preparation of low temperature polysilicon films

杨定宇 1蒋孟衡 1涂小强1

作者信息

  • 1. 成都信息工程学院,光电技术系,四川,成都,610225
  • 折叠

摘要

关键词

半导体技术/低温多晶硅薄膜/综述/金属诱导横向晶化/准分子激光晶化/触媒化学气相沉积/电感耦合等离子体化学气相沉积

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

杨定宇,蒋孟衡,涂小强..低温多晶硅薄膜制备技术应用进展[J].电子元件与材料,2007,26(8):8-11,4.

基金项目

四川省应用基础研究基金资助项目(04JY029-104) (04JY029-104)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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