电子元件与材料2010，Vol.29Issue(6)：14-17,4.DOI:10.3969/j.issn.1001-2028.2010.06.005
Al-N共掺杂ZnO:Mn稀磁半导体薄膜的结构与性能
Structure and properties of Al-N co-doped ZnO:Mn diluted magnetic semiconductor thin films
摘要
关键词
ZnO/稀磁半导体/磁控溅射/Al-N共掺杂分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
赵德友,徐光亮,刘桂香,彭龙..Al-N共掺杂ZnO:Mn稀磁半导体薄膜的结构与性能[J].电子元件与材料,2010,29(6):14-17,4.基金项目
四川省教育厅重点资助项目(No.08ZA009):西南科技大学博士基金资助项目(No.08ZX0102) （No.08ZA009）
