电子与封装2010，Vol.10Issue(5)：22-24,29,4.
EEPROM单元抗辐射版图设计技术
The Radiation Hardened Layout Design for EEPROM Cell
赵力 1田海燕 1周昕杰1
作者信息
- 1. 中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏,无锡,214035
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摘要
关键词
EEPROM单元/抗辐射/版图加固分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
赵力,田海燕,周昕杰..EEPROM单元抗辐射版图设计技术[J].电子与封装,2010,10(5):22-24,29,4.
