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高介电常数Ta/Al2O3复合膜的制备及性能研究

马立波 朱绪飞

电子元件与材料2010,Vol.29Issue(7):40-42,3.
电子元件与材料2010,Vol.29Issue(7):40-42,3.

高介电常数Ta/Al2O3复合膜的制备及性能研究

Preparation and properties of high permittivity Ta/Al2O3 composite film

马立波 1朱绪飞2

作者信息

  • 1. 常州工程职业技术学院,江苏常州,213164
  • 2. 南京理工大学化工学院,江苏南京,210094
  • 折叠

摘要

关键词

氧化铝//电沉积/复合膜/介电性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

马立波,朱绪飞..高介电常数Ta/Al2O3复合膜的制备及性能研究[J].电子元件与材料,2010,29(7):40-42,3.

基金项目

南京理工大学科研基金资助项目(No.XKF05018) (No.XKF05018)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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