电子与封装2010，Vol.10Issue(9)：38-40,48,4.
0.5μm有源区腐蚀工艺的正交优化
Study of the Etching Technology in 0.5 Micro-island with Orthogonal Optimization Method
秦永伟 1赵金茹 1王春栋 1李俊1
作者信息
- 1. 中国电子科技集团公司第58研究所,江苏,无锡,214035
- 折叠
摘要
关键词
选择比/有源区腐蚀/正交优化实验法分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
秦永伟,赵金茹,王春栋,李俊..0.5μm有源区腐蚀工艺的正交优化[J].电子与封装,2010,10(9):38-40,48,4.
