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退火温度对电子束蒸发的ZnS薄膜性能的影响

赖松林 程树英 黄红梁 林珊

电子元件与材料2010,Vol.29Issue(11):55-57,3.
电子元件与材料2010,Vol.29Issue(11):55-57,3.

退火温度对电子束蒸发的ZnS薄膜性能的影响

Influence of annealing temperature On properties of ZnS thin films prepared by electron-beam evaporation

赖松林 1程树英 1黄红梁 1林珊1

作者信息

  • 1. 福州大学,物理与信息工程学院,微纳器件与太阳能电池研究所,福建,福州,350108
  • 折叠

摘要

关键词

ZnS薄膜/电子束蒸发/退火温度/光电性能

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

赖松林,程树英,黄红梁,林珊..退火温度对电子束蒸发的ZnS薄膜性能的影响[J].电子元件与材料,2010,29(11):55-57,3.

基金项目

福建省科技厅重点资助项目(No.2008I0019) (No.2008I0019)

福建省自然科学基金资助项目(No.2009J01285) (No.2009J01285)

福建省教育厅资助项目(No.JB09010) (No.JB09010)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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