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金属基NiCr-NiSi薄膜热电偶的制备及性能研究

姚飞 蒋洪川 张万里 刘兴钊 唐磊 于浩

电子元件与材料2010，Vol.29Issue(9)：6-8,3.
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电子元件与材料2010，Vol.29Issue(9)：6-8,3.

金属基NiCr-NiSi薄膜热电偶的制备及性能研究

Fabrication and performances of NiCr-NiSi thin film thermocouples on metal substrates

姚飞 1蒋洪川 1张万里 1刘兴钊 1唐磊 2于浩2

作者信息

  • 1. 电子科技大学,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川,成都,610054
  • 2. 中国燃气涡轮研究院测控室,四川,江油,621700
  • 折叠

摘要

关键词

NiCr-NiSi薄膜热电偶/静态标定/塞贝克系数

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

姚飞,蒋洪川,张万里,刘兴钊,唐磊,于浩..金属基NiCr-NiSi薄膜热电偶的制备及性能研究[J].电子元件与材料,2010,29(9):6-8,3.

基金项目

国防预研基金资助项目 （）

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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