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厚度对TaN薄膜电性能的影响研究

李会容 张雪峰

电子元件与材料2013,Vol.32Issue(5):20-22,3.
电子元件与材料2013,Vol.32Issue(5):20-22,3.DOI:10.3969/j.issn.1001-2028.2013.05.006

厚度对TaN薄膜电性能的影响研究

Influences of thickness on the electrical properties of tantalum nitride thin films

李会容 1张雪峰2

作者信息

  • 1. 攀枝花学院电气信息工程学院,四川攀枝花617000
  • 2. 攀枝花学院材料工程学院,四川攀枝花617000
  • 折叠

摘要

关键词

TaN薄膜/直流反应磁控溅射/厚度/TCR/电阻率/方阻

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

李会容,张雪峰..厚度对TaN薄膜电性能的影响研究[J].电子元件与材料,2013,32(5):20-22,3.

基金项目

四川省科技创新研究团队项目(No.2011JTD0039) (No.2011JTD0039)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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