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LTCC基板腔底平整度研究

岳帅旗 刘志辉 张刚 徐洋

电子元件与材料2014,Vol.33Issue(5):80-83,4.
电子元件与材料2014,Vol.33Issue(5):80-83,4.DOI:10.3969/j.issn.1001-2028.2014.05.019

LTCC基板腔底平整度研究

Study on floor flatness of LTCC cavities

岳帅旗 1刘志辉 1张刚 1徐洋1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第二十九研究所,四川成都610036
  • 折叠

摘要

关键词

低温共烧陶瓷/LTCC腔底平整度/烧结应力/通孔/层压/填充物

Key words

LTCC/ floor flatness of LTCC cavity/ sinter stress/ hole/ lamination/ filling object

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

岳帅旗,刘志辉,张刚,徐洋..LTCC基板腔底平整度研究[J].电子元件与材料,2014,33(5):80-83,4.

电子元件与材料

OACSCDCSTPCD

1001-2028

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