电子与封装2016，Vol.16Issue(9)：35-39,5.
一种改善器件性能的Halo工艺
Study of Halo Technology in Improving Device Performance
徐政 1李红征 1赵文彬1
作者信息
- 1. 中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡214035
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摘要
关键词
Halo/短沟效应/离子注入/掺杂分布/多晶条宽分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
徐政,李红征,赵文彬..一种改善器件性能的Halo工艺[J].电子与封装,2016,16(9):35-39,5.
