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基于锗硅BiCMOS工艺的射频带隙基准电流源设计

孙楷添 丁星火 张甘英

电子与封装2017,Vol.17Issue(6):23-26,4.
电子与封装2017,Vol.17Issue(6):23-26,4.

基于锗硅BiCMOS工艺的射频带隙基准电流源设计

A Design of SiGeBiCMOS Bandgap Current Reference for Radio-Frequency Circuit

孙楷添 1丁星火 2张甘英1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡214072
  • 2. 西安电子科技大学微电子学院,西安710071
  • 折叠

摘要

关键词

锗硅工艺/射频/带隙基准/温漂系数/噪声

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

孙楷添,丁星火,张甘英..基于锗硅BiCMOS工艺的射频带隙基准电流源设计[J].电子与封装,2017,17(6):23-26,4.

电子与封装

1681-1070

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