电子元件与材料2018，Vol.37Issue(7)：83-87,5.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2018.07.016
无裂纹SiO2薄膜的纳尺度电射流叠层沉积工艺
Preparation of crack-free SiO2 thin film using nano-scale layer-by-layer electrohydrodynamic jet deposition
摘要
关键词
二氧化硅/薄膜/无开裂/电射流沉积/沉积高度/扫描间距分类
通用工业技术引用本文复制引用
梁军生,郑胜,王金鹏,王大志,任同群..无裂纹SiO2薄膜的纳尺度电射流叠层沉积工艺[J].电子元件与材料,2018,37(7):83-87,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(51675085 （）
51475081) （）
