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VDMOS横向变掺杂终端的优化与设计

赵磊 冯全源

电子元件与材料2018,Vol.37Issue(9):53-56,4.
电子元件与材料2018,Vol.37Issue(9):53-56,4.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2018.09.011

VDMOS横向变掺杂终端的优化与设计

Optimization and design of variable lateral doping termination for VDMOS

赵磊 1冯全源1

作者信息

  • 1. 西南交通大学 微电子研究所,四川 成都 611756
  • 折叠

摘要

关键词

垂直双扩散场效应晶体管(VDMOS)/场限环/横向变掺杂/击穿电压/终端/功率器件

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

赵磊,冯全源..VDMOS横向变掺杂终端的优化与设计[J].电子元件与材料,2018,37(9):53-56,4.

基金项目

国家自然科学基金重点项目(61531016) (61531016)

四川省科技支撑计划重点项目(2017GZ0110) (2017GZ0110)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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