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低电容TVS用常压外延工艺研究

仲张峰 尤晓杰 王银海 邓雪华 魏建宇 杨帆

电子与封装2018,Vol.18Issue(9):33-35,3.
电子与封装2018,Vol.18Issue(9):33-35,3.

低电容TVS用常压外延工艺研究

Study on the AP Epitaxial Process of LCTVS Diode

仲张峰 1尤晓杰 1王银海 1邓雪华 1魏建宇 1杨帆1

作者信息

  • 1. 南京国盛电子有限公司,南京211111
  • 折叠

摘要

关键词

瞬态电压抑制器(TVS)/低电容/常压外延/自掺杂/纵向载流子分布(SRP)

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

仲张峰,尤晓杰,王银海,邓雪华,魏建宇,杨帆..低电容TVS用常压外延工艺研究[J].电子与封装,2018,18(9):33-35,3.

电子与封装

1681-1070

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