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电子束曝光邻近效应修正研究

尤春刘维维

电子与封装2018，Vol.18Issue(10)：40-43,47,5.

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电子与封装2018，Vol.18Issue(10)：40-43,47,5.

电子束曝光邻近效应修正研究

Proximity Effect Correction in E-Beam Lithography

尤春 ¹刘维维¹

作者信息

1. 无锡中微掩模电子有限公司,江苏无锡214135
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摘要

关键词

掩模/电子束曝光/邻近效应/PEC

分类

信息技术与安全科学

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尤春,刘维维..电子束曝光邻近效应修正研究[J].电子与封装,2018,18(10):40-43,47,5.

电子与封装

ISSN：1681-1070

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