电子与封装2019，Vol.19Issue(8)：39-43,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2019.0811
基于248nm扫描光刻机工艺的0.15μm GaAs单片限幅低噪声放大器
0.15 μm GaAs Limiter-LNA MMIC Based on 248 nm Scanner Process
摘要
关键词
248 nm扫描光刻机/烘胶工艺/X波段/GaAs/单片限幅低噪声放大器分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
王溯源,章军云,彭龙新,黄念宁..基于248nm扫描光刻机工艺的0.15μm GaAs单片限幅低噪声放大器[J].电子与封装,2019,19(8):39-43,5.
