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扩孔液中Cu2+离子对高压铝箔直流腐蚀的影响

何凤荣 余凯 张霞 向云刚 肖远龙

电子元件与材料2019,Vol.38Issue(9):66-70,76,6.
电子元件与材料2019,Vol.38Issue(9):66-70,76,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2019.09.010

扩孔液中Cu2+离子对高压铝箔直流腐蚀的影响

Effect of Cu2+ ion in electrolyte on electrochemical etching behavior of high-voltage aluminum foil

何凤荣 1余凯 1张霞 1向云刚 1肖远龙1

作者信息

  • 1. 东莞东阳光科研发有限公司, 广东 东莞 523871
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摘要

关键词

高压铝箔/极化曲线/Cu2+离子/比电容/直流腐蚀/扩孔

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

何凤荣,余凯,张霞,向云刚,肖远龙..扩孔液中Cu2+离子对高压铝箔直流腐蚀的影响[J].电子元件与材料,2019,38(9):66-70,76,6.

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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