电子元件与材料2019，Vol.38Issue(11)：10-13,4.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2019.11.002
基于铁电薄膜的Al/PVDF/SiO2/n-Si结构的负电容效应研究
Investigation of negative capacitances in ferroelectric Al/PVDF/SiO2 /n-Si thin film structures
摘要
关键词
负电容/铁电薄膜/PVDF/MFIS结构/电感分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
麦满芳,朱传云,李矩明,马信洲..基于铁电薄膜的Al/PVDF/SiO2/n-Si结构的负电容效应研究[J].电子元件与材料,2019,38(11):10-13,4.基金项目
国家自然科学基金 (11504242) （11504242）
佛山科学技术学院高层次人才科研启动项目 (gg07049) （gg07049）
