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不同温度硫化生长ZnS薄膜的性能

杨光 张仁刚 曹兴忠 张鹏 王宝义

电子元件与材料2020,Vol.39Issue(3):33-38,6.
电子元件与材料2020,Vol.39Issue(3):33-38,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.03.006

不同温度硫化生长ZnS薄膜的性能

Properties of ZnS thin films prepared by different-temperature sulfidation

杨光 1张仁刚 1曹兴忠 2张鹏 2王宝义2

作者信息

  • 1. 武汉科技大学 理学院, 湖北 武汉 430081
  • 2. 中国科学院高能物理研究所, 北京 100049
  • 折叠

摘要

关键词

ZnS薄膜/磁控溅射/硫化/光透过率

分类

数理科学

引用本文复制引用

杨光,张仁刚,曹兴忠,张鹏,王宝义..不同温度硫化生长ZnS薄膜的性能[J].电子元件与材料,2020,39(3):33-38,6.

基金项目

国家自然科学基金(11705212, 11975173) (11705212, 11975173)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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