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Zn沉积时间对低温硫化制备ZnS薄膜性能的影响

杨光张仁刚曹兴忠张鹏王宝义

电子元件与材料2020，Vol.39Issue(5)：43-48,6.

电子元件与材料2020，Vol.39Issue(5)：43-48,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.05.006

Effect of deposition time of Zn on properties of ZnS thin films prepared by low-temperature sulfidation

杨光 ¹张仁刚 ¹曹兴忠 ²张鹏 ²王宝义²

作者信息

ZnS薄膜/磁控溅射/Zn沉积时间/低温硫化/光透过率

数理科学

杨光,张仁刚,曹兴忠,张鹏,王宝义..Zn沉积时间对低温硫化制备ZnS薄膜性能的影响[J].电子元件与材料,2020,39(5):43-48,6.

国家自然科学基金(11705212,11975173) （11705212,11975173）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1001-2028

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