电子元件与材料2020，Vol.39Issue(7)：28-34,7.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.0339
磁控溅射制备高循环稳定性的氟氧化铜薄膜研究
Preparation of copper oxyfluoride films with high cycling stability by magnetron sputtering
摘要
关键词
二水氟化铜(CuF2·2H2O)/氟氧化铜/磁控溅射/循环稳定性分类
化学化工引用本文复制引用
宋世湃,彭翔,彭晓丽,张晓琨,向勇..磁控溅射制备高循环稳定性的氟氧化铜薄膜研究[J].电子元件与材料,2020,39(7):28-34,7.基金项目
国家自然科学基金 (21905040) （21905040）
国家重点研发计划 (2017YFB0702802) （2017YFB0702802）
