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刻蚀方法对Ti3C2二维材料层状结构的影响

邱凡 王占勇 刘敏 丁松

电子元件与材料2020,Vol.39Issue(7):72-77,6.
电子元件与材料2020,Vol.39Issue(7):72-77,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.0326

刻蚀方法对Ti3C2二维材料层状结构的影响

Influences of etching method on layered structure of Ti3 C2 two-dimensional materials

邱凡 1王占勇 1刘敏 1丁松1

作者信息

  • 1. 上海应用技术大学 材料科学与工程学院, 上海 201418
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摘要

关键词

二维材料/MXene(Ti3C2)/层状结构/直接刻蚀法/原位刻蚀法

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

邱凡,王占勇,刘敏,丁松..刻蚀方法对Ti3C2二维材料层状结构的影响[J].电子元件与材料,2020,39(7):72-77,6.

基金项目

上海市科委地方高校能力建设项目 (16090503600) (16090503600)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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