电子元件与材料2020，Vol.39Issue(7)：90-94,101,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.0292
多孔聚二甲基硅氧烷薄膜的制备及摩擦发电性能研究
Preparation and triboelectric properties of porous polydimethylsiloxane film
摘要
关键词
聚二甲基硅氧烷/多孔材料/摩擦纳米发电机/负摩擦材料分类
通用工业技术引用本文复制引用
林金堂,王嘉鑫,丘志榕,李典伦..多孔聚二甲基硅氧烷薄膜的制备及摩擦发电性能研究[J].电子元件与材料,2020,39(7):90-94,101,6.基金项目
国家重点研发计划 (2016YFB0401602) （2016YFB0401602）
国家自然科学基金 (U1605244) （U1605244）
