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掩模涨缩技术在衍射光学元件制作中的应用

张鹏 李嘉 丁鼎

电子与封装2020,Vol.20Issue(8):62-66,5.
电子与封装2020,Vol.20Issue(8):62-66,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.0807

掩模涨缩技术在衍射光学元件制作中的应用

Application of Mask Sizing Issues in the Fabrication of Diffractive Optical Elements

张鹏 1李嘉 1丁鼎1

作者信息

  • 1. 无锡中微掩模电子有限公司,江苏无锡214000
  • 折叠

摘要

关键词

衍射光学元件/感应耦合等离子体刻蚀技术/涨缩技术/零级光能量

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

张鹏,李嘉,丁鼎..掩模涨缩技术在衍射光学元件制作中的应用[J].电子与封装,2020,20(8):62-66,5.

电子与封装

1681-1070

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