电子与封装2020，Vol.20Issue(10)：62-65,4.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2020.1013
掩模干法蚀刻参数的优化研究
Optimization of Mask Dry Etching Parameters
华卫群 1刘维维1
作者信息
- 1. 无锡中微掩模电子有限公司,江苏无锡214035
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摘要
关键词
干法蚀刻/掩模/蚀刻参数/优化分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
华卫群,刘维维..掩模干法蚀刻参数的优化研究[J].电子与封装,2020,20(10):62-65,4.
