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基于0.15 μm GaN工艺的2~18 GHz两级分布式放大器

贾洁 蔡利康

电子与封装2021,Vol.21Issue(3):53-56,4.
电子与封装2021,Vol.21Issue(3):53-56,4.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0308

基于0.15 μm GaN工艺的2~18 GHz两级分布式放大器

2-18 GHz Two Stage Distribute Power Amplifier by 0.15μm GaN Process

贾洁 1蔡利康1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第五十五研究所,南京210016
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摘要

关键词

超宽带/分布式/功率管放大器

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

贾洁,蔡利康..基于0.15 μm GaN工艺的2~18 GHz两级分布式放大器[J].电子与封装,2021,21(3):53-56,4.

电子与封装

1681-1070

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