|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|电子元件与材料|射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究

射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究

阳生红 蒋志洁 张曰理

电子元件与材料2021，Vol.40Issue(3)：234-238,5.
✕
电子元件与材料2021，Vol.40Issue(3)：234-238,5.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2021.1549

射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究

Structural and ferromagnetic properties of Mn doped ZnO thin films prepared by RF magnetron sputtering

阳生红 1蒋志洁 1张曰理2

作者信息

  • 1. 中山大学 物理学院, 广东 广州 510275
  • 2. 中山大学 材料科学与工程学院, 广东 广州 510275
  • 折叠

摘要

关键词

Zn1-xMnxO薄膜/磁控溅射/结构/铁磁性

分类

数理科学

引用本文复制引用

阳生红,蒋志洁,张曰理..射频磁控溅射制备Mn掺杂ZnO薄膜的结构和铁磁性能研究[J].电子元件与材料,2021,40(3):234-238,5.

基金项目

国家自然科学基金(61176010,61172027) （61176010,61172027）

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文