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高击穿电压复合介质结构垂直GaN基PN二极管优化设计

赵智源 杜江锋 刘勇 于奇

电子元件与材料2021,Vol.40Issue(3):250-256,261,8.
电子元件与材料2021,Vol.40Issue(3):250-256,261,8.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2021.1837

高击穿电压复合介质结构垂直GaN基PN二极管优化设计

Optimal design of high breakdown voltage vertical trapezoidal GaN PN diodes with a compound dielectric

赵智源 1杜江锋 1刘勇 1于奇1

作者信息

  • 1. 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室, 四川 成都 610054
  • 折叠

摘要

关键词

GaN/复合介质/PN二极管/击穿电压/电场分布

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

赵智源,杜江锋,刘勇,于奇..高击穿电压复合介质结构垂直GaN基PN二极管优化设计[J].电子元件与材料,2021,40(3):250-256,261,8.

基金项目

国家自然科学基金面上项目(61376078) (61376078)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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