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多层瓷介电容器端电极制备工艺研究

何创创 杨俊 庞锦标 徐敏

电子元件与材料2021,Vol.40Issue(6):518-523,6.
电子元件与材料2021,Vol.40Issue(6):518-523,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2021.0049

多层瓷介电容器端电极制备工艺研究

Preparation of terminal electrode of multilayer ceramic dielectric capacitors

何创创 1杨俊 1庞锦标 1徐敏1

作者信息

  • 1. 中国振华集团云科电子有限公司, 贵州 贵阳 550018
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摘要

关键词

多层瓷介电容器/蘸浆端涂/薄膜溅射/端电极/焊接可靠性

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

何创创,杨俊,庞锦标,徐敏..多层瓷介电容器端电极制备工艺研究[J].电子元件与材料,2021,40(6):518-523,6.

基金项目

国家工信部工业强基工程建设项目(0714-EMTC-02-00869) (0714-EMTC-02-00869)

装备发展部军用电子元器件支撑科研项目(1905WM0011) (1905WM0011)

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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