| 注册
首页|期刊导航|电子与封装|基于导通延迟补偿的并联MOS栅控晶闸管均流方法研究

基于导通延迟补偿的并联MOS栅控晶闸管均流方法研究

袁榕蔚 刘超 陈万军

电子与封装2021,Vol.21Issue(7):71-76,6.
电子与封装2021,Vol.21Issue(7):71-76,6.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.0714

基于导通延迟补偿的并联MOS栅控晶闸管均流方法研究

Research on Parallel Current Sharing of MOS Gate Controlled Thyristor Based on Gate Resistance on Delay Compensation

袁榕蔚 1刘超 1陈万军1

作者信息

  • 1. 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都610054
  • 折叠

摘要

关键词

MOS栅控晶闸管/并联均流/导通延迟补偿/栅电阻

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

袁榕蔚,刘超,陈万军..基于导通延迟补偿的并联MOS栅控晶闸管均流方法研究[J].电子与封装,2021,21(7):71-76,6.

电子与封装

1681-1070

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文