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沉积速率对MOCVD-Y(Gd)BCO超导薄膜结构与性能的影响研究

杨帆 赵睿鹏 陈曦 黄涛 陶伯万

电子元件与材料2021，Vol.40Issue(8)：788-794,7.
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电子元件与材料2021，Vol.40Issue(8)：788-794,7.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2021.0193

沉积速率对MOCVD-Y(Gd)BCO超导薄膜结构与性能的影响研究

Effect of deposition rate on the structure and performance of MOCVD-Y( Gd) BCO high-temperature superconducting films

杨帆 1赵睿鹏 1陈曦 1黄涛 1陶伯万1

作者信息

  • 1. 电子科技大学 电子薄膜与集成器件国家重点实验室, 四川 成都 610054
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摘要

关键词

高温超导带材/Y(Gd)BCO/MOCVD/沉积速率

分类

数理科学

引用本文复制引用

杨帆,赵睿鹏,陈曦,黄涛,陶伯万..沉积速率对MOCVD-Y(Gd)BCO超导薄膜结构与性能的影响研究[J].电子元件与材料,2021,40(8):788-794,7.

基金项目

国家自然科学基金(51872040) （51872040）

电子元件与材料

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-2028

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