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SOI高压LDMOS单粒子烧毁效应机理及脉冲激光模拟研究

师锐鑫 周锌 乔明 王卓 李燕妃

电子与封装2021,Vol.21Issue(11):65-69,5.
电子与封装2021,Vol.21Issue(11):65-69,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2021.1115

SOI高压LDMOS单粒子烧毁效应机理及脉冲激光模拟研究

Study on Mechanism of Single Event Burnout Effect and Pulse Laser Simulation Experiment for High-Voltage SOI LDMOS

师锐鑫 1周锌 1乔明 2王卓 1李燕妃2

作者信息

  • 1. 电子科技大学电子科学与工程学院,成都 611731
  • 2. 电子科学大学广东电子信息工程研究院,广东东莞 523000
  • 折叠

摘要

关键词

单粒子烧毁效应/SOI高压LDMOS/脉冲激光

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

师锐鑫,周锌,乔明,王卓,李燕妃..SOI高压LDMOS单粒子烧毁效应机理及脉冲激光模拟研究[J].电子与封装,2021,21(11):65-69,5.

基金项目

广东省自然科学基金(2018A030310015) (2018A030310015)

电子与封装

1681-1070

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