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溅射覆铜陶瓷基板表面研磨技术研究

王哲 刘松坡 吕锐 陈红胜 陈明祥

电子与封装2022,Vol.22Issue(3):P.18-22,5.
电子与封装2022,Vol.22Issue(3):P.18-22,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2022.0312

溅射覆铜陶瓷基板表面研磨技术研究

王哲 1刘松坡 1吕锐 1陈红胜 1陈明祥2

作者信息

  • 1. 武汉利之达科技股份有限公司,武汉430206
  • 2. 华中科技大学机械科学与工程学院,武汉430074
  • 折叠

摘要

关键词

DPC陶瓷基板/电镀铜层/表面研磨/工艺优化/封装

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

王哲,刘松坡,吕锐,陈红胜,陈明祥..溅射覆铜陶瓷基板表面研磨技术研究[J].电子与封装,2022,22(3):P.18-22,5.

基金项目

湖北省重点研发计划(2020BAB068) (2020BAB068)

武汉市科技成果转化重大项目(2019030703011528)。 (2019030703011528)

电子与封装

1681-1070

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