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基于GSMC 0.13μm工艺的低失调运算放大器设计

万成功 鲁佳慧 黄光明

电子元件与材料2022,Vol.41Issue(4):P.412-417,6.
电子元件与材料2022,Vol.41Issue(4):P.412-417,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2022.1287

基于GSMC 0.13μm工艺的低失调运算放大器设计

万成功 1鲁佳慧 1黄光明1

作者信息

  • 1. 华中师范大学物理科学与技术学院,湖北武汉430079
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摘要

关键词

运算放大器/复合路径/斩波调制/自动调零/低失调/低纹波

分类

信息技术与安全科学

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万成功,鲁佳慧,黄光明..基于GSMC 0.13μm工艺的低失调运算放大器设计[J].电子元件与材料,2022,41(4):P.412-417,6.

电子元件与材料

OA北大核心CSTPCD

1001-2028

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