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辐照源对LVMOS器件总剂量辐射电离特性的影响

陶伟 刘国柱 宋思德 魏轶聃 赵伟

电子与封装2022,Vol.22Issue(7):P.64-68,5.
电子与封装2022,Vol.22Issue(7):P.64-68,5.DOI:10.16257/j.cnki.1681-1070.2022.0715

辐照源对LVMOS器件总剂量辐射电离特性的影响

陶伟 1刘国柱 1宋思德 1魏轶聃 1赵伟1

作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏无锡214072
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摘要

关键词

总剂量辐射电离/阈值电压/^(60)Co/X射线

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

陶伟,刘国柱,宋思德,魏轶聃,赵伟..辐照源对LVMOS器件总剂量辐射电离特性的影响[J].电子与封装,2022,22(7):P.64-68,5.

基金项目

国家自然科学基金面上项目(62174150) (62174150)

江苏省自然科学基金面上项目(BK20211040)。 (BK20211040)

电子与封装

1681-1070

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