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HfO_(2)薄膜的亲疏水性对石墨烯沉积的影响

樊瑞祥王伟刘姗杨玉帅王凯

电子元件与材料2022，Vol.41Issue(12)：P.1307-1311,1323,6.

电子元件与材料2022，Vol.41Issue(12)：P.1307-1311,1323,6.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2022.0254

樊瑞祥 ¹王伟 ¹刘姗 ¹杨玉帅 ¹王凯¹

作者信息

HfO_(2)薄膜/石墨烯/掠入射X射线衍射/表面接触角/等离子体化学气相沉积

信息技术与安全科学

樊瑞祥,王伟,刘姗,杨玉帅,王凯..HfO_(2)薄膜的亲疏水性对石墨烯沉积的影响[J].电子元件与材料,2022,41(12):P.1307-1311,1323,6.

河北省自然科学基金(F2019202377)。（F2019202377）

OA北大核心CSTPCD

ISSN：1001-2028

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