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用于钴互连CMP抛光液的研究进展

刘江皓 牛新环 闫晗 屈明慧 罗付

电子元件与材料2023，Vol.42Issue(2)：137-143,7.
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电子元件与材料2023，Vol.42Issue(2)：137-143,7.DOI:10.14106/j.cnki.1001-2028.2023.1474

用于钴互连CMP抛光液的研究进展

Research progress of polishing slurry for cobalt interconnection

刘江皓 1牛新环 2闫晗 1屈明慧 2罗付1

作者信息

  • 1. 河北工业大学 电子信息工程学院,天津 300130
  • 2. 天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130
  • 折叠

摘要

关键词

化学机械抛光/钴/综述/互连金属/抛光液/添加剂

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

刘江皓,牛新环,闫晗,屈明慧,罗付..用于钴互连CMP抛光液的研究进展[J].电子元件与材料,2023,42(2):137-143,7.

基金项目

国家科技重大专项资助(2016ZX02301003-004-007) （2016ZX02301003-004-007）

河北省自然科学基金(F2021202009) （F2021202009）

国家自然科学基金(62074049) （62074049）

电子元件与材料

OA北大核心CSTPCD

1001-2028

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